치주학회지(JPIS), 논문인용지수 2.614로 상승
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치주학회지(JPIS), 논문인용지수 2.614로 상승
  • 이인문 기자
  • 승인 2021.07.08 16:40
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지난해 이어 2년 연속 국내 치의학 SCIE 저널 중 최고점수 갱신

대한치주과학회(회장 허익)가 지난 6일 공식 학술지인 JPIS(Journal of Periodontal & Implant Science)의 2020년 논문인용지수(Impact Factor, IF)가 지난 2019년 1.472에서 2.614로 상승, 전 세계 치과계 SCIE 등재 국제 학술지 전체 91개 중 42위를 차지해 2년 연속 상위 50%(Q2) 그룹에 속하게 됐다고 발표했다. 

허익 회장
허익 회장

Clarivate사에서 지난달 30일 발표한 2020년 논문인용지수 발표 결과에 따르면 JPIS는 지난 2014년 SCIE로 편입된 이후 처음으로 논문인용지수가 2.0을 넘었으며, 특히 JPIS에서 인용된 결과(self-citation)를 제외하더라도 2.543이라는 높은 결과를 보여, 타 저널에서 JPIS 논문을 많이 인용하는 결과를 보인 것으로 나타났다.

JPIS는 지난 1971년 창간했으며 2010년 영문학술지인 JPIS로 변경 후 2014년 SCIE에 편입된 바 있다..

허익 회장은 “ 최근 5년간 논문인용지수가 지속적으로 상승하면서 매우 우수한 성과를 보이고 있다”며 “학회 창립 61주년을 맞아 공식 학회지가 국제적으로 인정받아 매우 기쁘고 학회지 발간에 힘써준 신승윤 편집장 이하 관계자들의 노고에 감사를 드린다“고 소감을 밝혔했다.

신승윤 편집장도 “SCIE 등재 7년만에 2점대 이상의 논문인용지수를 기록한 것은 매우 고무적”이라면서도 “논문인용지수가 많이 상승했음에도 불구하고 치과계 학술지 순위가 오히려 약간 하락한 것은 앞으로 상위 25% 이내로 진입하기 위해 노력할 것이 아직 많이 남아 있음을 뜻한다. 논문의 질적 향상과 함께 출판윤리 및 국제요소 강화를 위해 보다 노력하겠다”고 다짐했다.

한편 현재 JPIS의 발행은 신승윤 편집장(경희대), 박준범 편집이사(서울성모병원), 박신영(서울대)·박정철(단국대)·김용건(경북대) 편집실행이사와 편집위원들이 담당하고 있다.



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